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化学气相沉积 (CVD) 应用

2022/2/24 10:01:20      点击:

  Application Note For Chemical Vapor Deposition (CVD)


        化学气相沉积 (CVD) 工艺是一种涂层工艺,它在加热的基材表面使用热诱导化学反应,试剂以气态形式(CH4 H2 等离子体)提供
        CVD
工艺在真空炉中进行,温度范围为 600 2500 摄氏度。在此过程中,将一片晶种薄片放置在密封室中并加热到 800 摄氏度左右。然后在该室中填充碳达到的气体(CH4 &H2),在这个过程中,来自气体的离子被解离,从而增加了石墨烯在衬底上的沉积,即目标晶种上的碳和氢等离子体。
       
该应用程序的挑战性部分是等离子体发射特定波长的红外能量,我们需要通过等离子体测量目标的一致温度。 AST 提供基于非接触式红外的高温计,可在等离子体透明的选定波长下工作。由于 CVD 是一个耗时的过程,因此仪器的高精度和稳定性至关重要。
         
以色列AST(Accurate Sensors Technology)公司专门设计制作的CVD测温仪, 具有内置温度显示、模拟和数字输出、继电器输出和参数设置按键。它的传感头非常小,安装非常方便。随附的软件 Infrasoft 可帮助用户通过 RS 232 RS 485 在电脑中连续记录过程数据。