半导体应用红外测温仪-北京杜贺利创科技有限公司

半导体应用红外测温仪

更新：2023/11/28 12:19:32 点击：

品牌： AST
型号：

产品介绍

化学气相沉积 (CVD) 工艺是一种涂层工艺，它在加热的基材表面使用热诱导化学反应，试剂以气态形式（CH4 和 H2 等离子体）提供。

CVD 工艺在真空炉中进行，温度范围为 600 至 2500 摄氏度。在此过程中，将一片晶种薄片放置在密封室中并加热到 800 摄氏度左右。然后在该室中填充碳达到的气体(CH4 &H2)，在这个过程中，来自气体的离子被解离，从而增加了石墨烯在衬底上的沉积，即目标晶种上的碳和氢等离子体。

一片金刚石的种子放置于高温高压的密封容器中。容器里有甲烷等混合气体。通过微波、激光或其它技术手段将气体电离出等离子体，即把气体中的分子电离后，比较纯的碳元素就附着于金刚石的种子表面，逐渐地生长成晶体。晶体生长过程中，温度检测是至关重要的。实际是要检测晶体表面的温度而非等离子体的温度（透过等离子体）。

该应用程序的挑战性部分是等离子体发射特定波长的红外能量，我们需要通过等离子体测量目标的一致温度。 AST 提供基于非接触式红外的高温计，可在等离子体透明的选定波长下工作。由于 CVD 是一个耗时的过程，因此仪器的高精度和稳定性至关重要。

以色列AST(Accurate Sensors Technology)公司专门设计制作的CVD测温仪，可以应用于人造金刚石、硅外延生长、碳化硅晶体炉等，具有内置温度显示、模拟和数字输出、继电器输出和参数设置按键。它的传感头非常小，安装非常方便。随附的软件 Infrasoft 可帮助用户通过 RS 232 或 RS 485 在电脑中连续记录过程数据。

	AST-EG系列
测量范围（分段）	250 ~ 1800°C
发射率0.1～0.3%+1
重复性	读数的0.1% + 1
主要应用	退火、轧钢、焊接、金属加工、锻造等
瞄准方式	激光
热电偶输出（选配）	—
信号处理	峰值保持及跟踪保持
可选配件	安装配件、RS-232/ RS-485接口、其它的电缆长度